粉末Ｘ線回折装置（PXRD）
| メーカー名・型式 | リガク・SmartLab-SP/IUA |
|---|---|
| 導入年度 | 平成 25（2013）年度 |
| 設置地区 | 水戸地区 |
| 設置場所 | 研究設備共用センター 1階 X線構造解析室 |
| 公開範囲 | 学内：〇 学外：〇 |
| 依頼測定 | 無 |
| 取扱責任者 | 研究設備共用センター 大堀 祐輔 |
機器性能および仕様
| X線源 | Cu（封入管式） |
|---|---|
| 運転時出力 | 1.2 kW（40 kV-30 mA） |
| ２θ範囲 | 10-160°（標準的な2θ/θ測定の場合） |
| 検出器 | １次元半導体検出器D/teX Ultra 250 ハイブリッド型2次元ピクセル検出器HyPix-3000 |
| カメラ長 | ０、１次元測定：300mm ２次元測定：27～300mm（アタッチメントによる） |
| 光学系 | 集中法光学系、多層膜ミラー平行ビーム光学系、小角散乱 |
| アタッチメント・試料台 | 標準試料台 10 試料自動交換試料台 透過小角X線散乱 χφアタッチメント ガンドルフィ測定アタッチメント XRD-DSC 同時測定アタッチメント 多目的試料高温アタッチメント 透過2D-SAXS/WAXSアタッチメント 2D-GI-SAXS/WAXSアタッチメント 2D-GI-WAXSアタッチメント(Aperture Slit法) |
| 測定ソフトウェア | SmartLab Guidance |
| 解析ソフトウェア | PDXL2（データベース：ICDD PDF-2 2024）、 Nanosolver、Globalfit、2DP、３DEplorer、TP解析 |
分析対象
粉末試料、薄膜試料、微小結晶（アタッチメントによる）
活用事例
粉末試料の定性分析
高分子薄膜の高次構造解析
合成試料の確認